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多利,你好:"克隆"技术的背景.现状与未来
ISBN/价格：
7-208-02664-5:￥10.00
作品语种：
chi
出版国别：
CN 310000
题名责任者项：
多利,你好/.
韩王荣,龚静编著
出版发行项：
上海:,上海人民出版社:,1997,8
载体形态项：
181页:;+32开
中图分类：
Q132.4-49
个人名称等同：
韩王荣 编著
个人名称等同：
龚静 编著
记录来源：
CN LCCC 19961219
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