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《集成电路掩模设计:基础版图技术》

集成电路掩模设计:基础版图技术

ISBN/价格:7-302-10860-9:CNY59.00
作品语种:chi eng
出版国别:CN 110000
题名责任者项:集成电路掩模设计/.(美)塞因特,(美)塞因特著/.周润德,金申美译
出版发行项:北京:,清华大学出版社:,2006.1
载体形态项:435页:;+19cm
丛编项:国外大学优秀教材.微电子类系列
题名主题:集成电路 电路设计 高等学校 教材
中图分类:TN402
个人名称等同:(美)塞因特 著
记录来源:CN XDSD 20060330
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