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光学投影曝光微纳加工技术
| ISBN/价格： | 7-5639-1669-5:CNY46.00 |
|---|---|
| 作品语种： | chi |
| 出版国别： | CN 110000 |
| 题名责任者项： | 光学投影曝光微纳加工技术/.姚汉民，胡松，邢廷文著 |
| 出版发行项： | 北京:,北京工业大学出版社:,2006 |
| 载体形态项： | 285页:;+图，肖像，表:;+26cm |
| 丛编项： | 电子束、离子束、光子束微纳加工技术系列专著 |
| 一般附注： | 国家科学技术学术著作出版基金资助 |
| 提要文摘： | 本书系统介绍主流光刻技术——光学投影光刻的工作原理、系统组成、应用和发展前景，详细介绍投影光刻物镜、掩模硅片对准、激光定位工件台、分辨力增强技术以及整机集成。 |
| 题名主题： | 光学投影系统 电子束光刻 |
| 中图分类： | TH761.8 |
| 中图分类： | TN405 |
| 个人名称等同： | 姚汉民 著 |
| 个人名称等同： | 胡松 著 |
| 个人名称等同： | 邢廷文 著 |
| 记录来源： | CN 110019 20070515 |