| ISBN/价格: | 978-7-115-21580-2:CNY65.00 |
|---|---|
| 作品语种: | chi eng |
| 出版国别: | CN 110000 |
| 题名责任者项: | 完美曝光/.(美) Rick Sammon著/.张波译 |
| 出版发行项: | 北京:,人民邮电出版社:,2010.1 |
| 载体形态项: | 216页:;+图表:;+26cm |
| 提要文摘: | 本书讲解了曝光在摄影中的重要作用,以及获取出色曝光的途径和技法。从直接影响曝光的两大因素——快门速度和光圈开始讲起,分析不同类型的光线、感光度和白平衡设置、曝光模式和测光模式选择、包围曝光和曝光补偿等,并介绍了闪光灯曝光、色彩模式、自然光控制、直方图、Photoshop后期处理等知识。在本书结尾部分,作者还分享了很多优秀作品,意在为读者提供拍摄参考和创作灵感。 |
| 并列题名: | Rick sammon's exploring the light eng |
| 题名主题: | 曝光 基本知识 |
| 题名主题: | 曝光 |
| 中图分类: | TB811 |
| 个人名称等同: | Rick Sammon 著 |
| 个人名称次要: | 张波 译 |
| 记录来源: | CN LCTBU 20110104 |