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微纳尺度制造工程:第三版
| ISBN/价格： | 978-7-121-11804-3:CNY69.00 |
|---|---|
| 作品语种： | eng |
| 出版国别： | CN 110000 |
| 题名责任者项： | 微纳尺度制造工程/.(美) 斯蒂芬 A. 坎贝尔著 |
| 版本项： | 英文影印版 |
| 出版发行项： | 北京:,电子工业出版社:,2010.9 |
| 载体形态项： | xx, 637页:;+图:;+24cm |
| 丛编项： | 国外电子与通信教材系列 |
| 相关题名附注： | 英文题名原文取自版权页 |
| 提要文摘： | 本书系统地介绍了微电子制造科学原理与工程技术，覆盖了集成电路制造所涉及的所有基本单项工艺，包括光刻、等离子体和反应离子刻蚀、离子注入、扩散、氧化、蒸发、气相外延生长、溅射和化学气相淀积等。本书新增加的内容包括原子层淀积、电镀铜、浸润式光刻、纳米压印与软光刻、薄膜器件、有机发光二极管以及应变技术在CMOS 工艺中的应用等，对于其他已经过时的或不再具有先进性的题材则做了适当的简化或删除处理。 |
| 题名主题： | 微电子技术 高等学校 教材 |
| 中图分类： | TN405 |
| 个人名称等同： | 坎贝尔 (美)m 著 |
| 记录来源： | 重庆书店 20110615 |