| ISBN/价格: | 978-7-5640-3404-7:CNY75.00 |
|---|---|
| 作品语种: | chi |
| 出版国别: | CN 110000 |
| 题名责任者项: | 现代光电子成像技术概论/.向世明主编 |
| 出版发行项: | 北京:,北京理工大学出版社:,2010.8 |
| 载体形态项: | 11,416页,[4] 页图版:;+图:;+26cm |
| 丛编项: | 国防特色术专著.光学工程类 |
| 提要文摘: | 本书是工业和信息化部国防科技工业教育“十二五”规划国防特色专著之一。内容涉及X射线及短波辐射成像、紫外线成像、可见光成像、微光成像、红外成像、微波成像、遥感成像、高速摄影摄像等。 |
| 题名主题: | 光电器件 成象原理 概论 |
| 中图分类: | TN15 |
| 个人名称等同: | 向世明 主编 |
| 记录来源: | CN LCTBU 20111030 |