| ISBN/价格： | 978-7-121-13428-9:CNY83.00 |
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| 作品语种： | chi eng |
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| 出版国别： | CN 110000 |
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| 题名责任者项： | 微纳尺度制造工程/.(美)斯蒂芬·A·坎贝尔著著/.严利人n张伟等译 |
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| 出版发行项： | 北京:,电子工业出版社:,2011.5 |
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| 载体形态项： | 19,640页:;+图:;+26cm |
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| 丛编项： | 国外电子与通信教材系列 |
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| 提要文摘： | 本书系统地介绍了微电子制造科学原理与工程技术，覆盖了集成电路制造所涉及的所有基本单项工艺，包括光刻、等离子体和反应离子刻蚀、离子注入、扩散、氧化、蒸发、气相外延生长、溅射和化学气相淀积等。对每一种单项工艺，不仅介绍了它的物理和化学原理，还描述了用于集成电路制造的工艺设备。本书新增加的内容包括原子层淀积、电镀铜、浸润式光刻、纳米压印与软光刻、薄膜器件、有机发光二极管以及应变技术在CMOS工艺中的应用等。 |
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| 并列题名： | Fabrication engineering at the micro-and nanoscale eng |
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| 题名主题： | 微电子技术 生产工艺 高等学校 教材 |
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| 题名主题： | 应用软件 |
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| 题名主题： | 应用软件 |
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| 中图分类： | TN405 |
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| 个人名称等同： | 坎贝尔 斯蒂芬.A. (美) (Campbell,S.A.) 著 |
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| 个人名称次要： | 严利人 译 |
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| 记录来源： | CN LCTBU 20120515 |
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