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构图至上:摄影视觉艺术的关键因素
| ISBN/价格： | 978-7-115-27752-7:CNY89.00 |
|---|---|
| 作品语种： | chi |
| 出版国别： | CN 110000 |
| 题名责任者项： | 构图至上/.宿伟东著 |
| 出版发行项： | 北京:,人民邮电出版社:,2012.05 |
| 载体形态项： | 335页:;+照片:;+26cm |
| 提要文摘： | 本书共分8章，从摄影构图的一般规律开始，由浅入深地介绍了摄影构图的基本原理和方法，详细讲述了构图的造型因素、构图元素、光线对构图的影响、利用电脑后期的二次构图等。按摄影的门类重点对风光摄影和小品摄影的构图做了细致讲解。 |
| 题名主题： | 摄影构图 |
| 中图分类： | J406 |
| 个人名称等同： | 宿伟东 著 |
| 记录来源： | CN LCTBU 20121108 |