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多弧离子镀沉积过程的计算机模拟
| ISBN/价格： | 978-7-5024-6227-7:CNY26.00 |
|---|---|
| 作品语种： | chi |
| 出版国别： | CN 110000 |
| 题名责任者项： | 多弧离子镀沉积过程的计算机模拟/.赵时璐著 |
| 出版发行项： | 北京:,冶金工业出版社:,2013.4 |
| 载体形态项： | 232页:;+图:;+21cm |
| 提要文摘： | 本书系统介绍了多弧离子镀沉积过程的计算机模拟研究。全书共分13章：第1章为绪论部分；第2章为真空镀膜技术的介绍；第3章为多弧离子镀沉积过程模拟的理论基础；第4章为多弧离子镀物理过程的分析；第5章为计算机模拟技术部分；第6章为数学模型的建立；第7章为程序的编制部分；第8～11章为模拟的结果部分；第12章为模拟结果的讨论与验证部分；第13章为6个模块的主要程序代码部分。 |
| 题名主题： | 计算机模拟 应用 离子镀 研究 |
| 中图分类： | TG174.4-39 |
| 个人名称等同： | 赵时璐 著 |
| 记录来源： | CN LCTBU 20130930 |