书目信息 机读格式(MARC)
真空镀膜原理与技术
| ISBN/价格： | 978-7-03-039898-7:CNY38.00 |
|---|---|
| 作品语种： | chi |
| 出版国别： | CN 110000 |
| 题名责任者项： | 真空镀膜原理与技术/.方应翠主编 |
| 出版发行项： | 北京:,科学出版社:,2014.2 |
| 载体形态项： | 213页:;+图, 照片:;+24cm |
| 提要文摘： | 本书阐述了真空镀膜的应用，以及真空镀膜薄膜在基体表面生长的过程，探讨了薄膜生长的影响因素。具体介绍了真空镀膜的各种方法，包括真空蒸发镀、真空溅射镀、真空离子镀以及化学气相沉积的原理、特点、装置及应用技术等。 |
| 题名主题： | 真空技术 镀膜 |
| 中图分类： | TN305 |
| 个人名称等同： | 方应翠 主编 |
| 记录来源： | CN LCTBU 20140325 |