| ISBN/价格： | 978-7-03-039110-0:CNY75.00 |
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| 作品语种： | chi |
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| 出版国别： | CN 110000 |
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| 题名责任者项： | 碳化硅光学反射镜超精密加工的基础理论与方法/.李圣怡[等] 著 |
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| 出版发行项： | 北京:,科学出版社:,2014.1 |
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| 载体形态项： | 186页:;+图:;+24cm |
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| 丛编项： | 维纳制造的基础研究学术著作丛书 |
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| 一般附注： | 国家重点基础研究发展计划项目 “空间光学选进制造基础理论及关键技术研究”资助 |
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| 提要文摘： | 本书重点介绍了我们承担的国家重大基础研究项目（973）的研究成果的一部分。是一部专门针对新一代空间光学碳化硅光学材料加工的专著。内容包括：五种典型碳化硅光学材料如碳/碳化硅（C/SiC）、硅/碳化硅（Si/SiC）两相涂层、化学气相沉积碳化硅（CVDSiC）、反应烧结碳化硅（RBSiC）以及烧结碳化硅（SSiC）的显微结构与力学行为；碳化硅反射镜磨削、研磨、传统抛光与可控柔体加工的材料去除机理与相关工艺；适用于碳化硅反射镜的高效、高精度、超光滑加工工艺路线以及具有代表性的碳化硅光学元件加工实例等。 |
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| 题名主题： | 碳化硅 光学材料 反射镜 超精加工 |
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| 中图分类： | TH744 |
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| 个人名称等同： | 李圣怡 著 |
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| 个人名称等同： | 戴一帆 著 |
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| 个人名称等同： | 康念辉 著 |
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| 记录来源： | CN LCTBU 20120101 |
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