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《金刚石膜制备与应用.下卷》

金刚石膜制备与应用.下卷

ISBN/价格:978-7-03-041823-4:CNY188.00
作品语种:chi
出版国别:CN 110000
题名责任者项:金刚石膜制备与应用/.吕反修主编
出版发行项:北京:,科学出版社:,2014.08
载体形态项:25,768 1471页:;+图:;+24cm
丛编项:纳米科学与技术丛书
一般附注:国家出版基金项目
提要文摘:本书论述了化学气相沉积(CVD)金刚石膜的制备、组织结构和性能表征,金刚石膜化学气相沉积理论,以及在电学(电子学)、热学、光学、声学、电化学、力学等领域的应用,在高超声速、外太空、核和极端摩擦磨损环境下众多高新技术应用研究进展和市场前景。本卷分六篇,共29章,第一篇,金刚石膜的制备;第二篇,金刚石膜组织结构和性能表征;第三篇,金刚石膜沉积理论;第四篇,金刚石膜的应用;第五篇,纳米金刚石膜制备与应用;第六篇,金刚石相关材料。
题名主题:类金刚石膜 研究
中图分类:TB43
个人名称等同:吕反修 主编
记录来源:CN zjlib 20150205
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