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薄膜技术与薄膜材料
| ISBN/价格： | 978-7-122-22618-1:CNY30.00 |
|---|---|
| 作品语种： | chi |
| 出版国别： | CN 110000 |
| 题名责任者项： | 薄膜技术与薄膜材料/.石玉龙，闫凤英编著 |
| 出版发行项： | 北京:,化学工业出版社:,2015.03 |
| 载体形态项： | 242页:;+21cm |
| 提要文摘： | 本书共分4章，分别阐述了材料表面防护装饰膜层的物理气相沉积技术（包括真空蒸发镀膜、溅射镀膜、离子镀镀膜），化学气相沉积技术（包括简单的CVD相关理论、设备装置、CVD种类等），硬膜及超硬膜的制备技术（金刚石膜、类金刚石膜、立方氮化硼膜、CNx膜及氮化物、碳化物、氧化物薄膜及复合薄膜等），以及利用化学、电化学反应在材料表面制备膜层的技术（包括化学镀、化学氧化、钝化、磷化、电镀、阳极氧化、微弧氧化等内容）。 |
| 题名主题： | 薄膜技术 研究 |
| 题名主题： | 薄膜 工程材料 研究 |
| 中图分类： | TB43 |
| 中图分类： | TB383 |
| 个人名称等同： | 石玉龙 编著 |
| 个人名称等同： | 闫凤英 编著 |
| 记录来源： | CN 浙江省新华书店集团公司 20150401 |