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集成电路制造技术
| ISBN/价格： | 978-7-122-26284-4:CNY35.00 |
|---|---|
| 作品语种： | chi |
| 出版国别： | CN 110000 |
| 题名责任者项： | 集成电路制造技术/.杜中一著 |
| 出版发行项： | 北京:,化学工业出版社:,2016.4 |
| 载体形态项： | 172页:;+图:;+24cm |
| 提要文摘： | 本书全面、系统地介绍了集成电路制造技术，内容包括集成电路制造概述、多晶半导体的制备、单晶半导体的制备、晶圆制备、薄膜制备、金属有机物化学气相沉积、光刻、刻蚀及掺杂。书中简要介绍了集成电路制造的基本理论基础，系统地介绍了多晶半导体、单晶半导体与晶圆的制备，详细介绍了薄膜制备、光刻与刻蚀及掺杂等工艺。本书以半导体硅材料集成电路制造为主，兼顾化合物半导体材料集成电路制造。 |
| 题名主题： | 集成电路工艺 |
| 中图分类： | TN405 |
| 个人名称等同： | 杜中一 著 |
| 记录来源： | CN 百万庄 20160331 |