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纳米集成电路制造工艺
| ISBN/价格： | 978-7-302-45233-1:CNY89.00 |
|---|---|
| 作品语种： | chi |
| 出版国别： | CN 110000 |
| 题名责任者项： | 纳米集成电路制造工艺/.张汝京等编著 |
| 版本项： | 第2版 |
| 出版发行项： | 北京:,清华大学出版社:,2017.1 |
| 载体形态项： | xiv, 471页:;+图:;+26cm |
| 提要文摘： | 本书共分19章，涵盖先进集成电路工艺的发展史，集成电路制造流程、介电薄膜、金属化、光刻、刻蚀、表面清洁与湿法刻蚀、掺杂、化学机械平坦化，器件参数与工艺相关性，DFM(Design for Manufacturing)，集成电路检测与分析、集成电路的可靠性，生产控制，良率提升，芯片测试与芯片封装等项目和课题。 |
| 并列题名： | Nanoscale integrated circuits eng |
| 题名主题： | 纳米材料 集成电路工艺 |
| 中图分类： | TN405 |
| 个人名称等同： | 张汝京, 编著 |
| 记录来源： | CN 北京新华书店首都发行所有限公司 20170213 |