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等离子体蚀刻及其在大规模集成电路制造中的应用
| ISBN/价格： | 978-7-302-48959-7:CNY55.00 |
|---|---|
| 作品语种： | chi |
| 出版国别： | CN 110000 |
| 题名责任者项： | 等离子体蚀刻及其在大规模集成电路制造中的应用/.张海洋, 等编著 |
| 出版发行项： | 北京:,清华大学出版社:,2018.2 |
| 载体形态项： | 376页:;+图, 肖像:;+27cm |
| 丛编项： | 高端集成电路制造工艺丛书 |
| 提要文摘： | 系统性回顾了过去半个世纪干法蚀刻技术的演变，深入介绍了该技术的基本机理，在逻辑产品和闪存产品中的具体应用以及对于逻辑电路可靠性影响的系统分析。同时针对特殊气体和特种材料的蚀刻应用进行了展望；最后以高等过程蚀刻控制重要性及其在集成电路制造中应用的必要性结尾； |
| 题名主题： | 大规模集成电路 集成电路工艺 等离子刻蚀 |
| 中图分类： | TN405 |
| 个人名称等同： | 张海洋 编著 |
| 记录来源： | CN 北京书子美 20180328 |