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《碳化硅技术基本原理:生长、表征、器件和应用》

碳化硅技术基本原理:生长、表征、器件和应用

ISBN/价格:978-7-111-58680-7:CNY150.00
作品语种:chi eng
出版国别:CN 110000
题名责任者项:碳化硅技术基本原理/.(日) 木本恒暢, (美) 詹姆士 A. 库珀著/.夏经华 ... [等] 译
出版发行项:北京:,机械工业出版社:,2018.5
载体形态项:xiii, 500页:;+图:;+24cm
丛编项:新型电力电子器件丛书
提要文摘:本书是一本有关碳化硅材料、器件工艺、器件和应用方面的书籍,其主题包括碳化硅的物理特性、晶体和外延生长、电学和光学性能的表征、扩展缺陷和点缺陷,器件工艺、功率整流器和开关器件的设计理念,单/双极型器件的物理和特征、击穿现象、高频和高温器件,以及碳化硅器件的系统应用,涵盖了基本概念和最新发展现状,并针对每个主题做深入的阐释,包括基本的物理特性、最新的理解、尚未解决的问题和未来的挑战。
并列题名:Fundamentals of silicon carbide technology : growth, characterization, devices, and applications
题名主题:碳化硅陶瓷
中图分类:TQ174.75
个人名称等同:木本恒暢 著
个人名称等同:库珀 著
个人名称次要:夏经华 译
记录来源:CN 北京新华书店首都发行所有限公司 20180517
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