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微弧氧化工艺研究
| ISBN/价格： | 978-7-5647-5899-8:CNY38.00 |
|---|---|
| 作品语种： | chi |
| 出版国别： | CN 510000 |
| 题名责任者项： | 微弧氧化工艺研究/.高成，徐晋勇著 |
| 出版发行项： | 成都:,电子科技大学出版社:,2018.04 |
| 载体形态项： | 186页:;+26cm |
| 提要文摘： | 微弧氧化工艺又称为微等离子体氧化工艺或阳极火花沉积工艺，是在阳极氧化工艺基础上发展而来的新兴表面处理工艺。这是一种在轻合金表面通过微等离子体放电，进行复杂的电化学、等离子化学和热化学过程原位生长氧化物陶瓷膜层的新工艺。微弧氧化工艺生成的陶瓷氧化膜厚度可达200～300μm，显微硬度最高可达HV2000以上，极大提高了铝合金的应用范围。 |
| 中图分类： | TG17 |
| 个人名称等同： | 高成 著 |
| 个人名称等同： | 徐晋勇 著 |
| 记录来源： | CN 上海新华传媒连锁有限公司 20180613 |