ISBN/价格: | 978-7-118-11577-2:CNY118.00 |
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作品语种: | chi eng |
出版国别: | CN 110000 |
题名责任者项: | 纹影与阴影技术/.(美) 加里·塞特尔著/.G.S. Settles/.叶继飞 ... [等] 译 |
出版发行项: | 北京:,国防工业出版社:,2018.8 |
载体形态项: | xviii, 338页, [7] 页图版:;+图 (部分彩图), 肖像:;+24cm |
提要文摘: | 本书介绍了纹影与阴影技术的相关概念和具体应用。重点介绍了经典的托普勒纹影技术、大视场聚焦纹影技术、阴影技术, 以及一些特种纹影技术和定量评价方法, 介绍了纹影和阴影技术在应用过程中所遇到的系统配置、构成和成像等实际问题, 最后举例说明了其在固体、液体和气体等多种不同场合和领域的具体应用。 |
并列题名: | Schlieren and shadowgraph techniques eng |
题名主题: | 纹影显示 |
中图分类: | O354 |
个人名称等同: | 塞特尔 著 |
个人名称次要: | 叶继飞 译 |
个人名称次要: | 文明 译 |
记录来源: | CN 湖北三新 20181112 |
记录来源: | CN TSG 20200103 |