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硅MEMS工艺与设备基础
| ISBN/价格： | 978-7-118-11740-0:CNY160.00 |
|---|---|
| 作品语种： | chi |
| 出版国别： | CN 110000 |
| 题名责任者项： | 硅MEMS工艺与设备基础/.阮勇, 尤政编著 |
| 出版发行项： | 北京:,国防工业出版社:,2018.12 |
| 载体形态项： | xxxi, 463页, 8页图版:;+图:;+24cm |
| 丛编项： | 微米纳米技术丛书.MEMS与微系统系列 |
| 一般附注： | “十二五”国家重点图书出版规划项目 |
| 提要文摘： | 本书共12章, 内容包括: MEMS技术与器件发展概述; MEMS工艺与设计规则简介; 湿法清洗; 氧化; 光刻与图形化; 薄膜淀积; 掺杂; 刻蚀工艺; MEMS结构工艺等。 |
| 并列题名： | Fundamentals of silicon-based MEMS processing techniques and equipments eng |
| 题名主题： | 硅基材料 纳米材料 应用 微机电系统 |
| 中图分类： | TM38 |
| 个人名称等同： | 阮勇 编著 |
| 个人名称等同： | 尤政 编著 |
| 记录来源： | CN 湖北三新 20190308 |
| 记录来源： | CN TSG 20191226 |