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杂散光抑制设计与分析:analysis and control
| ISBN/价格： | 978-7-5680-5800-1:CNY88.00 |
|---|---|
| 作品语种： | chi eng |
| 出版国别： | CN 420000 |
| 题名责任者项： | 杂散光抑制设计与分析/.(美) Eric C. Fest/.于清华，俞侃，刘祥彪译 |
| 出版发行项： | 武汉:,华中科技大学出版社:,2019.11 |
| 载体形态项： | 208页:;+图:;+25cm |
| 丛编项： | 世界光电经典译丛 |
| 一般附注： | “十二五”国家重点图书出版规划项目 湖北省学术著作出版专项资金资助项目 |
| 提要文摘： | 本书共11章, 内容包括: 简介和术语; 杂散光分析中的基本辐射度学; 杂散光分析中的基本光线追迹; 光学表面粗糙度和涂层引起的散射; 微粒污染物引起的散射; 黑化表面处理引起的散射; 鬼反射、孔径衍射和衍射光学元件的衍射; 针对杂散光抑制的光学设计; 挡板和冷屏设计等。 |
| 并列题名： | Stray light eng |
| 题名主题： | 光学设计 |
| 中图分类： | TN202 |
| 个人名称等同： | 费斯特 著 |
| 个人名称次要： | 于清华 译 |
| 个人名称次要： | 俞侃 译 |
| 个人名称次要： | 刘祥彪 译 |
| 记录来源： | CN 湖北三新 20191225 |