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磁控溅射制备氮化铜薄膜的结构与性能
| ISBN/价格： | 978-7-5170-7439-7:CNY57.00 |
|---|---|
| 作品语种： | chi |
| 出版国别： | CN 110000 |
| 题名责任者项： | 磁控溅射制备氮化铜薄膜的结构与性能/.肖剑荣著 |
| 出版发行项： | 北京:,中国水利水电出版社:,2019.4 |
| 载体形态项： | 173页:;+图:;+24cm |
| 提要文摘： | 磁控溅射是一种通用、成熟的薄膜制备工艺技术, 其制备工艺可调剂参数较多, 通过精细控制能够实现对薄膜结构的有效调控。本书研究了薄膜的工艺参数、薄膜结构与性能等之间的内在关系, 探讨了薄膜的电子输运、光学带隙、热稳定性的有关物理量的变化机制。 |
| 题名主题： | 铜 金属薄膜 氮化处理 结构 研究 |
| 题名主题： | 铜 金属薄膜 氮化处理 性能 研究 |
| 中图分类： | TF811 |
| 个人名称等同： | 肖剑荣 著 |
| 记录来源： | CN 湖北三新 20190413 |