ISBN/价格: | 978-7-03-061432-2:CNY98.00 |
作品语种: | chi |
出版国别: | CN 110000 |
题名责任者项: | 晶体生长微观机理及晶体生长边界层模型/.殷绍唐著 |
出版发行项: | 北京:,科学出版社:,2020.08 |
载体形态项: | 10,161页:;+图:;+24cm |
一般附注: | 国家科学技术学术著作出版基金资助出版 |
提要文摘: | 本书突破了晶体生长机理研究的传统思维,采用高温激光显微拉曼光谱和同步辐射X射线衍射等现代观测技术,从微观尺度上,原位实时观测晶体生长过程中微观结构的演化。发现了晶体熔融生长时,熔体和晶体之间存在熔体结构向晶体结构过渡的晶体生长边界层,在边界层内,生长基元已具有单胞结构。生长晶面电荷静电场的计算,证明了生长界面上存在周期性丘状网格静电场。生长基元在界面静电场的作用下的取向获得调整,并在静电力的作用下准确叠合到生长界面的格位上。 |
并列题名: | Microcosmic mechanism of crystal growth and boundary layer model of crystal growth eng |
题名主题: | 晶体生长 机理 |
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题名主题: | 晶体生长 边界层 模型 |
中图分类: | O78 |
个人名称等同: | 殷绍唐 著 |
记录来源: | CN 人天书店 20200904 |