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微电子工艺原理与技术
| ISBN/价格： | 978-7-5603-9067-3:CNY78.00 |
|---|---|
| 作品语种： | chi |
| 出版国别： | CN 230000 |
| 题名责任者项： | 微电子工艺原理与技术/.田丽等主编 |
| 出版发行项： | 哈尔滨:,哈尔滨工业大学出版社:,2021.08 |
| 载体形态项： | 438页:;+图:;+26cm |
| 一般附注： | “双一流”建设精品出版工程 |
| 提要文摘： | 本书分五篇，硅衬底、氧化与掺杂、薄膜制备、光刻技术、工艺集成与封装测试。内容包括：单晶硅特征；硅片的制备；外延；热氧化；扩散；离子注入；化学气相淀积等。 |
| 并列题名： | Microelectronics processing principle and technology eng |
| 题名主题： | 微电子技术 |
| 中图分类： | TN4 |
| 个人名称等同： | 田丽 主编 |
| 记录来源： | CN 人天书店 20211016 |