书目信息 机读格式(MARC)
光刻机像质检测技术.上册
| ISBN/价格： | 978-7-03-067354-1:CNY248.00 |
|---|---|
| 作品语种： | chi |
| 出版国别： | CN 110000 |
| 题名责任者项： | 光刻机像质检测技术/.王向朝，戴凤钊等著 |
| 出版发行项： | 北京:,科学出版社:,2021.03 |
| 载体形态项： | 12,529页:;+图:;+26cm |
| 一般附注： | 国家科学技术学术著作出版基金资助出版 |
| 提要文摘： | 本书系统地介绍了光刻机像质检测技术。介绍了国际主流的光刻机像质检测技术，详细介绍了本团队提出的系列新技术，涵盖了光刻胶曝光法、空间像测量法、干涉测量法等检测技术，包括初级像质参数、波像差、偏振像差、动态像差、执像差等像质检测技术。 |
| 题名主题： | 光刻设备 影象质量 质量检验 |
| 中图分类： | TN305.7 |
| 个人名称等同： | 王向朝 著 |
| 个人名称等同： | 戴凤钊 著 |
| 记录来源： | CN 人天书店 20210425 |