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真空镀膜技术与设备
| ISBN/价格： | 978-7-5024-8880-2:CNY49.00 |
|---|---|
| 作品语种： | chi |
| 出版国别： | CN 110000 |
| 题名责任者项： | 真空镀膜技术与设备/.张以忱主编 |
| 版本项： | 2版 |
| 出版发行项： | 北京:,冶金工业出版社:,2021.08 |
| 载体形态项： | 299页:;+图:;+26cm |
| 一般附注： | 普通高等教育“十四五”规划教材 |
| 提要文摘： | 本书系统阐述了各种真空镀膜技术的基本概念和应用、真空镀膜机结构及蒸发源、磁控靶的设计计算、薄膜厚度的测量技术、薄膜与表面分析与检测技术；重点介绍了一些近年来新出现的镀膜方法与技术及真空镀膜机设计计算等方面的内容。 |
| 题名主题： | 真空技术 镀膜 高等教育 教材 |
| 中图分类： | TN305 |
| 个人名称等同： | 张以忱 主编 |
| 记录来源： | CN 人天书店 20211202 |