ISBN/价格: | 978-7-5639-7683-6:CNY56.00 |
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作品语种: | chi |
出版国别: | CN 110000 |
题名责任者项: | 多相流旋转耦合场制备Si3N4颗粒雾化过程流场分析/.廖达海,宁翔,吴南星著 |
出版发行项: | 北京:,北京工业大学出版社:,2021.10 |
载体形态项: | 126页:;+图:;+24cm |
提要文摘: | 本书深人地阐述了多相流旋转耦合场制备Si3N4颗粒的雾化过程,同时重点对雾化喷嘴结构与多相流旋转耦合场制备Si3N4颗粒的雾化效果进行了详细、系统的论述。 |
题名主题: | 氮化硅陶瓷 制备 |
中图分类: | TQ174.75 |
个人名称等同: | 廖达海 著 |
个人名称等同: | 宁翔 著 |
个人名称等同: | 吴南星 著 |
记录来源: | CN 人天书店 20211111 |