ISBN/价格: | 978-7-5692-7098-3:CNY65.00 |
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作品语种: | chi |
出版国别: | CN 220000 |
题名责任者项: | 气-固两相流旋转耦合场制备Si3N4颗粒混合过程流场分析/.余冬玲,张小辉,吴南星著 |
出版发行项: | 长春:,吉林大学出版社:,2021.09 |
载体形态项: | 224页:;+图:;+24cm |
提要文摘: | 本书分析了气-固两相流旋转耦合场制备Si3N4颗粒混合过程流场特性,分析了轴-径组合结构、底-壁组合结构与Si3N4颗粒混合过程之间的内在关联性。 |
题名主题: | 氮化硅陶瓷 制备 |
中图分类: | TQ174.75 |
个人名称等同: | 余冬玲 著 |
个人名称等同: | 张小辉 著 |
个人名称等同: | 吴南星 著 |
记录来源: | CN 人天书店 20211119 |