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气-固两相流旋转耦合场制备Si3N4颗粒混合过程流场分析
| ISBN/价格： | 978-7-5692-7098-3:CNY65.00 |
|---|---|
| 作品语种： | chi |
| 出版国别： | CN 220000 |
| 题名责任者项： | 气-固两相流旋转耦合场制备Si3N4颗粒混合过程流场分析/.余冬玲，张小辉，吴南星著 |
| 出版发行项： | 长春:,吉林大学出版社:,2021.09 |
| 载体形态项： | 224页:;+图:;+24cm |
| 提要文摘： | 本书分析了气-固两相流旋转耦合场制备Si3N4颗粒混合过程流场特性，分析了轴-径组合结构、底-壁组合结构与Si3N4颗粒混合过程之间的内在关联性。 |
| 题名主题： | 氮化硅陶瓷 制备 |
| 中图分类： | TQ174.75 |
| 个人名称等同： | 余冬玲 著 |
| 个人名称等同： | 张小辉 著 |
| 个人名称等同： | 吴南星 著 |
| 记录来源： | CN 人天书店 20211119 |