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产业专利分析报告.第84册,高端光刻机
| ISBN/价格： | 978-7-5130-8195-5:CNY70.00 |
|---|---|
| 作品语种： | chi |
| 出版国别： | CN 110000 |
| 题名责任者项： | 产业专利分析报告/.国家知识产权局学术委员会组织编写 |
| 出版发行项： | 北京:,知识产权出版社:,2022.7 |
| 载体形态项： | 149页, 6页图版:;+图 (部分彩图):;+26cm |
| 提要文摘： | 本书是高端光刻机行业的专利分析报告。报告从该行业的专利 (国内、国外) 申请、授权、申请人的已有专利状态、其他先进国家的专利状况、同领域领先企业的专利壁垒等方面入手, 关注重点分支领域如曝光系统、工件台与测量系统、环境与真空, 以及业内重要申请人如ASML, 充分结合相关数据, 展开分析, 并得出分析结果, 为广大相关从业人士提供了中肯、实用、及时的建议。本书是了解高端光刻机行业技术发展现状并预测未来走向, 帮助企业做好专利预警的必备工具书。 |
| 题名主题： | 专利 研究报告 世界 |
| 题名主题： | 光刻设备 专利 研究报告 世界 |
| 中图分类： | G306.7 |
| 中图分类： | TN305.7 |
| 团体名称等同： | 国家知识产权局学术委员会 组织编写 |
| 记录来源： | CN 湖北三新 20221014 |