| ISBN/价格： | 978-7-121-43902-5:CNY139.00 |
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| 作品语种： | chi |
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| 出版国别： | CN 110000 |
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| 题名责任者项： | 三维集成电路制造技术/.王文武主编 |
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| 出版发行项： | 北京:,电子工业出版社:,2022.7 |
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| 载体形态项： | 15,360页:;+图，照片:;+24cm |
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| 丛编项： | 集成电路系列丛书.集成电路制造 |
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| 一般附注： | 国家出版基金项目 集成电路产业知识赋能工程 “十四五”时期国家重点出版物出版专项规划项目 |
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| 相关题名附注： | 封面英文题名：Manufacturing technology of 3D transistors and ICs |
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| 提要文摘： | 本书立足于全球集成电路技术发展的趋势和技术路线，结合中国科学院微电子研究所积累的研究开发经验，介绍了三维集成电路制造工艺、FinFET和纳米环栅器件、三维NAND闪存、新型存储器件、三维单片集成、三维封装等关键核心技术。 |
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| 并列题名： | Manufacturing technology of 3D transistors and ICs eng |
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| 题名主题： | 集成电路工艺 |
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| 中图分类： | TN405 |
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| 个人名称等同： | 王文武 主编 |
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| 记录来源： | CN 浙江省新华书店集团公司 20220826 |
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