| ISBN/价格： | 978-7-121-45018-1:CNY98.00 |
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| 作品语种： | chi |
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| 出版国别： | CN 110000 |
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| 题名责任者项： | 等离子体刻蚀工艺及设备/.赵晋荣主编 |
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| 出版发行项： | 北京:,电子工业出版社:,2023.2 |
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| 载体形态项： | 14,164页:;+图:;+24cm |
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| 丛编项： | 集成电路系列丛书.集成电路产业专用装备 |
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| 一般附注： | 信学术出版基金 集成电路产业知识赋能工程 |
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| 相关题名附注： | 封面英文题名：Plasma etching process and apparatus |
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| 提要文摘： | 本书以集成电路领域中的等离子体刻蚀为切入点，介绍了等离子体基础知识、基于等离子体的刻蚀技术、等离子体刻蚀设备及其在集成电路中的应用。全书共8章，内容包括集成电路简介、等离子体基本原理、集成电路制造中的等离子体刻蚀工艺、集成电路封装中的等离子体刻蚀工艺、等离子体刻蚀机、等离子体测试和表征、等离子体仿真、颗粒控制和量产。 |
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| 并列题名： | Plasma etching process and apparatus eng |
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| 题名主题： | 等离子刻蚀 工艺学 |
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| 题名主题： | 等离子刻蚀 设备 |
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| 中图分类： | TN305.7 |
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| 个人名称等同： | 赵晋荣 主编 |
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| 记录来源： | CN 浙江省新华书店集团公司 20230307 |
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