ISBN/价格: | 978-7-121-45018-1:CNY98.00 |
作品语种: | chi |
出版国别: | CN 110000 |
题名责任者项: | 等离子体刻蚀工艺及设备/.赵晋荣主编 |
出版发行项: | 北京:,电子工业出版社:,2023.2 |
载体形态项: | 14,164页:;+图:;+24cm |
丛编项: | 集成电路系列丛书.集成电路产业专用装备 |
一般附注: | 信学术出版基金 集成电路产业知识赋能工程 |
相关题名附注: | 封面英文题名:Plasma etching process and apparatus |
提要文摘: | 本书以集成电路领域中的等离子体刻蚀为切入点,介绍了等离子体基础知识、基于等离子体的刻蚀技术、等离子体刻蚀设备及其在集成电路中的应用。全书共8章,内容包括集成电路简介、等离子体基本原理、集成电路制造中的等离子体刻蚀工艺、集成电路封装中的等离子体刻蚀工艺、等离子体刻蚀机、等离子体测试和表征、等离子体仿真、颗粒控制和量产。 |
并列题名: | Plasma etching process and apparatus eng |
题名主题: | 等离子刻蚀 工艺学 |
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题名主题: | 等离子刻蚀 设备 |
中图分类: | TN305.7 |
个人名称等同: | 赵晋荣 主编 |
记录来源: | CN 浙江省新华书店集团公司 20230307 |