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光学光刻和极紫外光刻
| ISBN/价格： | 978-7-5478-5720-5:CNY195.00 |
|---|---|
| 作品语种： | chi eng |
| 出版国别： | CN 310000 |
| 题名责任者项： | 光学光刻和极紫外光刻/.(德)安迪·爱德曼(Andreas Erdmann)著/.高伟民，徐东波，诸波尔译 |
| 出版发行项： | 上海:,上海科学技术出版社:,2023.01 |
| 载体形态项： | 316页:;+图:;+24cm |
| 一般附注： | 世纪出版 |
| 提要文摘： | 本书在阐述了光学光刻技术的基本内容后，还专门开辟章节，介绍了最先进的极紫外光刻技术的特点和难点，揭示了极紫外光刻的技术奥秘。 |
| 并列题名： | Optical and EUV lithography: a modeling perspective eng |
| 题名主题： | 光学 光刻系统 研究 |
| 题名主题： | 紫外线 光刻系统 研究 |
| 中图分类： | TN305.7 |
| 个人名称等同： | 爱德曼 安迪 著 |
| 个人名称次要： | 高伟民 译 |
| 个人名称次要： | 徐东波 译 |
| 个人名称次要： | 诸波尔 译 |
| 记录来源： | CN 浙江省新华书店集团公司 20221111 |