ISBN/价格: | 978-7-5478-5720-5:CNY195.00 |
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作品语种: | chi eng |
出版国别: | CN 310000 |
题名责任者项: | 光学光刻和极紫外光刻/.(德)安迪·爱德曼(Andreas Erdmann)著/.高伟民,徐东波,诸波尔译 |
出版发行项: | 上海:,上海科学技术出版社:,2023.01 |
载体形态项: | 316页:;+图:;+24cm |
一般附注: | 世纪出版 |
提要文摘: | 本书在阐述了光学光刻技术的基本内容后,还专门开辟章节,介绍了最先进的极紫外光刻技术的特点和难点,揭示了极紫外光刻的技术奥秘。 |
并列题名: | Optical and EUV lithography: a modeling perspective eng |
题名主题: | 光学 光刻系统 研究 |
题名主题: | 紫外线 光刻系统 研究 |
中图分类: | TN305.7 |
个人名称等同: | 爱德曼 安迪 著 |
个人名称次要: | 高伟民 译 |
个人名称次要: | 徐东波 译 |
个人名称次要: | 诸波尔 译 |
记录来源: | CN 浙江省新华书店集团公司 20221111 |