| ISBN/价格： | 978-7-121-44746-4:CNY159.00 |
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| 作品语种： | chi eng |
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| 出版国别： | CN 110000 |
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| 题名责任者项： | 微电子制造科学原理与工程技术/.(美)Stephen A. Campbell著/.严利人，梁仁荣译 |
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| 版本项： | 4版 |
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| 出版发行项： | 北京:,电子工业出版社:,2023.01 |
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| 载体形态项： | 11,595页:;+图，照片:;+26cm |
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| 丛编项： | 国外电子与通信教材系列 |
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| 一般附注： | 华信 |
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| 提要文摘： | 本书覆盖了集成电路制造所涉及的所有基本单项工艺，包括光刻、等离子体和反应离子刻蚀、离子注入、扩散、氧化、蒸发、气相外延生长、溅射和化学气相淀积等，新增了制作纳米集成电路及其他半导体器件所需的各种基本单项工艺，还介绍了22nm的FinFET器件、氮化镓LED及薄膜太阳能电池、新型微流体器件的制造工艺流程。 |
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| 并列题名： | Fabrication engineering at the micro-and nanoscale eng |
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| 题名主题： | 微电子技术 生产工艺 教材 |
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| 中图分类： | TN405 |
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| 个人名称等同： | 坎贝尔 S. A. 著 |
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| 个人名称次要： | 严利人 译 |
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| 个人名称次要： | 梁仁荣 译 |
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| 记录来源： | CN 浙江省新华书店集团公司 20230116 |
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