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《图说集成电路制造工艺》

图说集成电路制造工艺

ISBN/价格:978-7-122-43290-2:CNY99.00
作品语种:chi
出版国别:CN 110000
题名责任者项:图说集成电路制造工艺/.孙洪文编著
出版发行项:北京:,化学工业出版社:,2023.08
载体形态项:271页:;+24cm
一般附注:全彩图解
提要文摘:本书首先介绍了半导体行业的发展史;接着将整个芯片制造流程分为“加”“减”“乘”“除”四类,用图说的形式,讲解了氧化、化学气相淀积、物理法沉积薄膜、扩散、离子注入、清洗硅片、刻蚀、化学机械抛光、离子注入退火、回流、制备合金、光刻等核心工艺,同时对半导体材料、净化间、化学试剂、气体、半导体设备、掩膜版等必需条件也做了介绍。
题名主题:集成电路工艺 图解
中图分类:TN405
个人名称等同:孙洪文 编著
记录来源:CN 浙江省新华书店集团公司 20230728
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