ISBN/价格: | 978-7-118-12997-7:CNY128.00 |
作品语种: | chi |
出版国别: | CN 110000 |
题名责任者项: | 光学元件磁流变抛光理论与关键技术/.石峰,宋辞著 |
出版发行项: | 北京:,国防工业出版社:,2023.07 |
载体形态项: | 20,292页:;+图,照片:;+24cm |
一般附注: | 国防科技图书出版基金 |
提要文摘: | 本书介绍了光学元件磁流变抛光理论与关键工艺,尤其重点介绍了离轴非球面光学元件磁流变抛光关键技术。第1-6章侧重介绍磁流变抛光的理论和工艺研究,主要针对高精度光学镜面磁流变抛光过程中的去除函数多参数模型、表面与亚表面质量控制、驻留时间高精度求解与实现、修形工艺优化方法等关键问题进行研究和实验验证;第7-12章以离轴非球面光学零件的高精高效制造为需求牵引,针对离轴非球面磁流变抛光过程中的关键理论和工艺问题开展研究。 |
并列题名: | Magnetorheological polishing theory and key technology of optical components eng |
题名主题: | 光学元件 抛光 研究 |
中图分类: | TH74 |
个人名称等同: | 石峰 著 |
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个人名称等同: | 宋辞 著 |
记录来源: | CN 浙江省新华书店集团公司 20230830 |