书目信息 机读格式(MARC)
半导体先进光刻理论与技术
| ISBN/价格： | 978-7-122-43276-6:CNY198.00 |
|---|---|
| 作品语种： | chi eng |
| 出版国别： | CN 110000 |
| 题名责任者项： | 半导体先进光刻理论与技术/.(德)安德里亚斯·爱德曼(Andreas Erdmann)著/.李思坤译 |
| 出版发行项： | 北京:,化学工业出版社:,2023.08 |
| 载体形态项： | 304页:;+图，照片:;+24cm |
| 提要文摘： | 本书介绍了当前主流的光学光刻、先进的极紫外光刻以及下一代光刻技术。主要内容涵盖了光刻理论、工艺、材料、设备、关键部件、分辨率增强、建模与仿真、典型物理与化学效应等，包括光刻技术的前沿进展，还总结了极紫外光刻的特点、存在问题与发展方向。 |
| 并列题名： | Optical and EUV lithography: a modeling perspective eng |
| 题名主题： | 半导体光电器件 光刻设备 研究 |
| 中图分类： | TN305.7 |
| 个人名称等同： | 爱德曼 安德里亚斯 著 |
| 个人名称次要： | 李思坤 译 |
| 记录来源： | CN 浙江省新华书店集团公司 20230808 |