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衍射极限附近的光刻工艺
| ISBN/价格： | 978-7-302-67611-9:CNY368.00 |
|---|---|
| 作品语种： | chi |
| 出版国别： | CN 110000 |
| 题名责任者项： | 衍射极限附近的光刻工艺/.伍强[等]编著 |
| 版本项： | 2版 |
| 出版发行项： | 北京:,清华大学出版社:,2024.11 |
| 载体形态项： | 22,672页:;+图，照片:;+26cm |
| 丛编项： | 先进集成电路工艺技术丛书 |
| 一般附注： | 国家出版基金项目 2019年国家出版基金资助项目 “十三五”国家重点图书出版规划项目 四色印刷 |
| 提要文摘： | 本书以光刻工艺为主线，将光刻设备、光刻材料、光刻成像的理论计算、光刻工艺中各种建模思想和推导、芯片制造的技术发展要求，以及对光刻工艺各项参数的要求紧密地联系在一起，为读者展现一个整体的图景。 |
| 并列题名： | Photolithography process near the diffraction limit eng |
| 题名主题： | 光刻设备 研究 |
| 中图分类： | TN305.7 |
| 个人名称等同： | 伍强 编著 |
| 记录来源： | CN LCTBU 20250417 |