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光刻技术
| ISBN/价格： | 978-7-122-45151-4:CNY198.00 |
|---|---|
| 作品语种： | chi eng |
| 出版国别： | CN 110000 |
| 题名责任者项： | 光刻技术/.林本坚(Burn J. Lin)著/.严天宏译 |
| 出版发行项： | 北京:,化学工业出版社:,2024.08 |
| 载体形态项： | 369页:;+图:;+26cm |
| 一般附注： | 芯科技 |
| 提要文摘： | 本书旨在帮助读者掌握驱动光学光刻的基本方程和常数的相关知识，学习曝光系统和图像形成的基础理论，并了解光刻系统组件、处理和优化的相关知识；读者还可掌握光学光刻技术的前景和总体情况，加强对半导体制造技术的认知；还添加了接近印刷方面的全新材料，以及曝光系统、图像形成、E-D方法、硬件组件、处理和优化方面的更新和扩展材料，以及EUV技术和最新的浸没式光刻相关技术。 |
| 并列题名： | Optical lithography: here is why eng |
| 题名主题： | 光刻系统 |
| 中图分类： | TN305.7 |
| 个人名称等同： | 林本坚 (Lin, Burn J.) 著 |
| 个人名称次要： | 严天宏 译 |
| 记录来源： | CN LCTBU 20250421 |