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《光刻技术》

光刻技术

ISBN/价格:978-7-122-45151-4:CNY198.00
作品语种:chi eng
出版国别:CN 110000
题名责任者项:光刻技术/.林本坚(Burn J. Lin)著/.严天宏译
出版发行项:北京:,化学工业出版社:,2024.08
载体形态项:369页:;+图:;+26cm
一般附注:芯科技
提要文摘:本书旨在帮助读者掌握驱动光学光刻的基本方程和常数的相关知识,学习曝光系统和图像形成的基础理论,并了解光刻系统组件、处理和优化的相关知识;读者还可掌握光学光刻技术的前景和总体情况,加强对半导体制造技术的认知;还添加了接近印刷方面的全新材料,以及曝光系统、图像形成、E-D方法、硬件组件、处理和优化方面的更新和扩展材料,以及EUV技术和最新的浸没式光刻相关技术。
并列题名:Optical lithography: here is why eng
题名主题:光刻系统
中图分类:TN305.7
个人名称等同:林本坚 (Lin, Burn J.) 著
个人名称次要:严天宏 译
记录来源:CN LCTBU 20250421
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