ISBN/价格: | 978-7-122-45151-4:CNY198.00 |
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作品语种: | chi eng |
出版国别: | CN 110000 |
题名责任者项: | 光刻技术/.林本坚(Burn J. Lin)著/.严天宏译 |
出版发行项: | 北京:,化学工业出版社:,2024.08 |
载体形态项: | 369页:;+图:;+26cm |
一般附注: | 芯科技 |
提要文摘: | 本书旨在帮助读者掌握驱动光学光刻的基本方程和常数的相关知识,学习曝光系统和图像形成的基础理论,并了解光刻系统组件、处理和优化的相关知识;读者还可掌握光学光刻技术的前景和总体情况,加强对半导体制造技术的认知;还添加了接近印刷方面的全新材料,以及曝光系统、图像形成、E-D方法、硬件组件、处理和优化方面的更新和扩展材料,以及EUV技术和最新的浸没式光刻相关技术。 |
并列题名: | Optical lithography: here is why eng |
题名主题: | 光刻系统 |
中图分类: | TN305.7 |
个人名称等同: | 林本坚 (Lin, Burn J.) 著 |
个人名称次要: | 严天宏 译 |
记录来源: | CN LCTBU 20250421 |