| ISBN/价格： | 978-7-122-45663-2:CNY198.00 |
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| 作品语种： | chi jpn |
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| 出版国别： | CN 110000 |
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| 题名责任者项： | 热丝化学气相沉积技术/.(日)松村英树(Hideki Matsumura)[等]著/.黄海宾，沈鸿烈等译 |
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| 出版发行项： | 北京:,化学工业出版社:,2024.07 |
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| 载体形态项： | 345页:;+图:;+26cm |
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| 提要文摘： | 本书系统介绍了Cat-CVD技术，包括其基本原理、设备设计及应用。具体包括Cat-CVD的物理基础及其与等离子增强化学气相沉积的区别、Cat-CVD中化学反应的分析方法及基本原理、Cat-CVD物理化学基础、Cat-CVD制备的无机薄膜性能、引发化学气相沉积(iCVD)合成有机聚合物、Cat-CVD设备运行中的物理基础与技术、Cat-CVD在太阳电池和各种半导体器件中的应用、Cat-CVD系统中的活性基团及其应用，最后介绍了利用Cat-CVD 腔室中产生的活性基团，在低温下进行半导体掺杂。 |
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| 并列题名： | Catalytic chemical vapor deposition technology and applications of Cat-CVD eng |
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| 题名主题： | 化学气相沉积 |
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| 中图分类： | TG174.444 |
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| 个人名称等同： | 松村英树 (日) (Matsumura, Hideki) 著 |
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| 个人名称次要： | 黄海宾 译 |
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| 个人名称次要： | 沈鸿烈 译 |
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| 记录来源： | CN LCTBU 20250620 |
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