| ISBN/价格： | 978-7-5772-1800-7:CNY168.00 |
|---|
| 作品语种： | chi |
|---|
| 出版国别： | CN 420000 |
|---|
| 题名责任者项： | 原子层沉积技术/.陈蓉[等]著 |
|---|
| 出版发行项： | 武汉:,华中科技大学出版社:,2025.05 |
|---|
| 载体形态项： | 503页:;+彩照，图:;+24cm |
|---|
| 丛编项： | 集成电路制造工艺与装备技术丛书 |
|---|
| 一般附注： | “十四五”国家重点出版物出版规划项目 国家科学技术学术著作出版基金资助 |
|---|
| 提要文摘： | 本书围绕原子层沉积技术，针对原子层沉积工艺、纳米结构可控制造方法、智能制造装备研发、应用等方面进行阐述，全书共分为9章。其中第1章阐述了原子层沉积技术的基本原理与工艺，第2-3章分别介绍了平面型原子层沉积、粉末原子层沉积的方法与装备；第4章对选择性原子层沉积工艺方法进行了详细介绍；第5-9章讨论了原子沉积技术在光致发光、电致发光、柔性封装、热催化、能源材料等领域的应用，是前述章节理论方法的验证与拓展。 |
|---|
| 并列题名： | Atomic layer deposition technology eng |
|---|
| 题名主题： | 原子 沉积 技术 |
|---|
| 中图分类： | TB3 |
|---|
| 个人名称等同： | 陈蓉 著 |
|---|
| 记录来源： | CN LCTBU 20251009 |
|---|