| ISBN/价格： | 978-7-111-77773-1:CNY99.00 |
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| 作品语种： | chi jpn |
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| 出版国别： | CN 110000 |
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| 题名责任者项： | 半导体微缩图形化与下一代光刻技术精讲/.(日)冈崎信次主编/.朱光耀，母春航译 |
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| 出版发行项： | 北京:,机械工业出版社:,2025.04 |
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| 载体形态项： | 162页:;+24cm |
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| 丛编项： | 集成电路关键技术与创新应用丛书 |
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| 提要文摘： | 本书从光刻机到下一代光刻技术，从光刻胶材料到多重图形化技术，剖析每一步技术革新如何推动半导体产业迈向纳米级精细加工的新高度。全书共14章，内容包括光掩膜、下一代光刻技术发展趋势、EUV掩膜技术、纳米压印技术、电子束刻蚀技术与设备开发、定向自组装(DSA)技术、光刻胶材料的发展趋势、含金属光刻胶材料技术、多重图形化中的沉积和刻蚀技术、光散射测量技术、扫描探针显微镜技术、基于小角度X射线散射的尺寸和形状测量技术、MEMS技术的微缩图形化应用、原子级低损伤高精度刻蚀等。 |
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| 题名主题： | 半导体光电器件 研究 |
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| 题名主题： | 光刻设备 研究 |
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| 中图分类： | TN36 |
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| 中图分类： | TN305.7 |
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| 个人名称等同： | 冈崎信次 (日) 主编 |
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| 个人名称次要： | 朱光耀 译 |
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| 个人名称次要： | 母春航 译 |
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| 记录来源： | CN LCTBU 20251009 |
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