| ISBN/价格: | 978-7-5159-2377-2:CNY98.00 |
|---|---|
| 作品语种: | chi eng |
| 出版国别: | CN 110000 |
| 题名责任者项: | 丁衡高院士微米纳米技术文集/.丁衡高著 |
| 出版发行项: | 北京:,中国宇航出版社:,2024.07 |
| 载体形态项: | 530页:;+图,彩照:;+24cm |
| 提要文摘: | 本书综合介绍了微纳米加工技术的基础,包括光学曝光技术,电子束曝光技术,聚焦离子束加工技术,X射线曝光技术,各种刻蚀技术和微纳米尺度的复制技术。内容的编排上遵循了微纳米加工从光刻制图到刻蚀与图形转移的基本步骤。对各种加工技术的介绍着重讲清原理,列举基本的工艺步骤,说明了各种工艺条件的由来,并注意给出典型工艺参数,分析了各种技术的优缺点,及在应用过程中的注意事项。 |
| 题名主题: | 纳米材料 加工 文集 |
| 中图分类: | TB383 |
| 个人名称等同: | 丁衡高 著 |
| 记录来源: | CN LCTBU 20251009 |