| ISBN/价格: | 978-7-03-080389-4:CNY188.00 |
| 作品语种: | chi |
| 出版国别: | CN 110000 |
| 题名责任者项: | 氮化镓凹槽阳极器件理论与应用/.张进成著 |
| 出版发行项: | 北京:,科学出版社:,2024.12 |
| 载体形态项: | 260页:;+图:;+26cm |
| 相关题名附注: | 封面英文题名:Theory and application of GaN devices with recessed anode |
| 提要文摘: | 本书介绍了宽禁带氮化镓凹槽阳极结构的物理特性和实现方法,重点讲述了氮化镓凹槽阳极二极管器件。全书共分为8章,内容包括绪论、凹槽阳极GaN肖特基结器件制备工艺、位错免疫的凹槽阳极GaN肖特基结器件结构与特性、凹槽阳极GaN肖特基结开启电压调控方法、面向不同应用的凹槽阳极GaN肖特基二极管、凹槽阳极结构肖特基漏高电子迁移率晶体管、氮化镓p沟道凹槽栅场效应晶体管以及大功率GaN二极管整流和限幅电路。 |
| 并列题名: | Theory and application of GaN devices with recessed anode eng |
| 题名主题: | 氮化镓 半导体二极管 研究 |
| 中图分类: | TN3 |
| 个人名称等同: | 张进成 著 |
| 记录来源: | CN LCTBU 20251012 |