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Zemax光学设计从基础到实践
| ISBN/价格： | 978-7-122-45464-5:CNY118.00 |
|---|---|
| 作品语种： | chi |
| 出版国别： | CN 110000 |
| 题名责任者项： | Zemax光学设计从基础到实践/.张玺，唐钦编著 |
| 出版发行项： | 北京:,化学工业出版社:,2024.11 |
| 载体形态项： | 379页:;+图:;+27cm |
| 提要文摘： | 本书讲解了利用Zemax 2023进行光学设计和仿真分析的各种方法和技巧，主要内容包括光学设计基础、认识Ansys Zemax OpticStudio、初识镜头数据编辑器、光学成像镜头设计、镜头编辑高级操作、光学系统分析、非序列模式设计、几何光学像质评价、物理光学像质评价、光学系统的优化、光学系统公差分析和光学系统设计实例等。 |
| 题名主题： | 光学设计 研究 |
| 中图分类： | TN202 |
| 个人名称等同： | 张玺 编著 |
| 个人名称等同： | 唐钦 编著 |
| 记录来源： | CN LCTBU 20251012 |