| ISBN/价格: | 978-7-03-082648-0:CNY98.00 |
|---|---|
| 作品语种: | chi |
| 出版国别: | CN 110000 |
| 题名责任者项: | Ⅲ族氮化物薄膜生长与测试/.王文樑编著 |
| 出版发行项: | 北京:,科学出版社:,2025.08 |
| 载体形态项: | 231页:;+图:;+24cm |
| 提要文摘: | 本书共三篇。第一篇从晶体结构、物理化学特性出发,解析材料在光电子与高功率器件中的应用机理;第二篇介绍了化学/物理气相沉积技术原理与工艺优化策略;第三篇阐述了光学、电学等性能多维度表征方法。 |
| 题名主题: | 氮化物 薄膜技术 研究 |
| 中图分类: | TB43 |
| 个人名称等同: | 王文樑 编著 |
| 记录来源: | CN LCTBU 20251012 |