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III族氮化物的X射线衍射分析
| ISBN/价格： | 978-7-03-082649-7:CNY128.00 |
|---|---|
| 作品语种： | chi |
| 出版国别： | CN 110000 |
| 题名责任者项： | III族氮化物的X射线衍射分析/.王文樑著 |
| 出版发行项： | 北京:,科学出版社:,2025.06 |
| 载体形态项： | 222页:;+图:;+24cm |
| 丛编项： | 半导体科学与技术丛书 |
| 提要文摘： | 本书以III族氮化物的X射线衍射分析为核心,系统地阐述了该技术在薄膜表征中的多方面应用。全书共7章,各章节内容既相互独立又有机联系。第1章概述了III族氮化物薄膜的研究现状、X射线衍射的基本原理及其在该材料体系中的应用背景;第2章深入探讨了射线衍射在薄膜面内外取向关系分析中的具体应用;第3章重点介绍了原位X射线射技术及其在薄膜外延生长实时监测中的应用;第4章详细论述了射线衍射测定薄膜晶格常数的技术要点,并对测量误差来源进行了系统分析;第5章全面阐述了X射线衍射在薄膜应力分析中的应用,包括应力来源、影响因素及优化策略;第6章着重探讨了又射线衍射技术在薄膜缺陷表征中的应用及其误差控制方法;第7章则从单层和多层结构两个维度系统介绍了X射线衍射在薄膜厚度及层数分析中的具体应用。 |
| 题名主题： | 氮化物 X射线衍射分析 |
| 中图分类： | O657.39 |
| 个人名称等同： | 王文樑 著 |
| 记录来源： | CN LCTBU 20251012 |