| ISBN/价格: | 978-7-111-79863-7:CNY109.00 |
|---|---|
| 作品语种: | chi jpn |
| 出版国别: | CN 110000 |
| 题名责任者项: | 石墨烯时代/.(日)吾乡浩树,(日)斋藤理一郎主编/.于乐[等]译 |
| 出版发行项: | 北京:,机械工业出版社:,2026.01 |
| 载体形态项: | 11,373页:;+图:;+24cm |
| 丛编项: | 集成电路关键技术与创新应用丛书 |
| 一般附注: | 机工通信 |
| 提要文摘: | 本书共有6章内容,开篇介绍二维材料领域的研究动向。随后以石墨烯、过渡金属二硫族化合物为中心,详细阐述其在晶体管、传感器、光电器件等多方面的应用研究,展示二维材料在不同领域的巨大潜力。书中还聚焦异质结构新进展,包括堆叠异质结构制作、直接生长等技术。在测量与合成技术板块,本书介绍了TEM、ARPES、拉曼光谱等先进测量手段,以及多种材料合成的前沿技术,如石墨烯、TMDC等的CVD生长方法。 |
| 题名主题: | 半导体集成电路 石墨烯 电子材料 研究 |
| 中图分类: | TN704 |
| 个人名称等同: | 吾乡浩树 (日) 主编 |
| 个人名称等同: | 斋藤理一郎 (日) 主编 |
| 个人名称次要: | 于乐 译 |
| 记录来源: | CN LCTBU 20260330 |